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- 2026-05-26 发布于重庆
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN120058063A
(43)申请公布日2025.05.30
(21)申请号202510339708.8
(22)申请日2025.03.21
(71)申请人济南大学
地址250022山东省济南市市中区南辛庄
西路336号
(72)发明人刘轶昊亓海强王仲鹏张健
刘伟王立国
(51)Int.Cl.
C02F1/461(2023.01)
C02F1/72(2023.01)
C02F101/38(2006.01)
权利要求书1页说明书4页附图4页
(54)发明名称
一种应用于非均相电芬顿技术的NiO/多孔
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