碲化铜化学分析方法 第4部分：硒含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法和硫代硫酸钠滴定法标准化发展研究报告.docx

碲化铜化学分析方法第4部分：硒含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法和硫代硫酸钠滴定法标准化发展报告

StandardizationDevelopmentReportforMethodsforChemicalAnalysisofCopperTelluride—Part4:DeterminationofSeleniumContent—InductivelyCoupledPlasmaAtomicEmissionSpectrometryandSodiumThiosulfateTitration

摘要

随着我国有色金属工业的快速发展，高纯金属材料及其化合物的检测需求日益增长。碲化铜作为重要的半导体材料和光电功能材料，其化学成分的准确测定对产品质量控制、工艺优化及国际贸易具有关键意义。硒元素作为碲化铜中的关键杂质元素，其含量直接影响材料的电学性能和光学性能。本报告围绕《碲化铜化学分析方法第4部分：硒含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法和硫代硫酸钠滴定法》行业标准的制定工作，系统分析了标准制定的背景、技术路线、方法原理及验证结果。研究采用电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES）和硫代硫酸钠滴定法两种方法，分别适用于不同含量范围的硒测定。通过实验室间比对试验、精密度试验和准确度试验，验证了两种方法的可靠性、准确性和适用性。