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基于动态曝光的激光光刻机的设计·l37·

个单元光强组成，对每个单元光强来说可近似为常量，激光器选用的是美国光波公司生产的半导体激光器

这样，动态曝光过程可转化为与Y轴平行的单元光强(AWAVE-351．500mW-3K)，该激光器脉冲频率可达1

一列一列地曝光上述截面。应用Dill曝光模型分析每～200kHz，脉冲宽度30ns，脉冲能量0．2mJ。

个单元光强曝光J，计算单元光强在胶层内曝光量激光器发出的激光光斑为圆形，经过聚焦和通过

的空间分布，并按光束运动轨迹将各曝光量对应叠加小孑L(方孔)对光束处理，光斑的形状为正方形，尺寸

可得到胶层内曝光量的最终空间分布。激光直写示意小于10m×10m，这样光斑边缘离光斑中心的距离

图如图2所示。较小，有效减少了光强衰减对曝光质量的影响。

由于采用了动态曝光的技术，每次曝