CN119627115A 涂碳集流体、含补锂涂层材料的制备方法及涂碳集流体 (江阴纳力新材料科技有限公司).docxVIP

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  • 2026-05-30 发布于山西
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CN119627115A 涂碳集流体、含补锂涂层材料的制备方法及涂碳集流体 (江阴纳力新材料科技有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119627115A

(43)申请公布日2025.03.14

(21)申请号202311172892.9

(22)申请日2023.09.12

(71)申请人江阴纳力新材料科技有限公司

地址214000江苏省无锡市江阴市璜土镇

华滨路26号

(72)发明人李亲燕杨开福张宇航唐皞

(74)专利代理机构北京润捷智诚知识产权代理事务所(普通合伙)11831

专利代理师李洋洋

(51)Int.Cl.

H01M4/66(2006.01)

H01M10/42(2006.01)

H01M4/36(2006.01)

H01M4/525(2010.01)

H01M4/485(2010.01)

H01M4/48(2010.01)

H01M4/62(2006.01)

H01M4/583(2010.01)

H01M10/052(2010.01)

权利要求书1页说明书8页附图1页

(54)发明名称

涂碳集流体、含补锂涂层材料的制备方法及

涂碳集流体

(57)摘要

CN119627115A本发明提供一种涂碳集流体、含补锂涂层材料的制备方法及涂碳集流体,涂碳集流体包括:集流体及涂覆于集流体表面的含补锂涂层材料;所述含补锂涂层材料包括内核材料层,包覆所述

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