ASTM D8267-24 中文版（3nm 及以下先进制程半导体超纯水系统设计标准）.docxVIP

ASTMD8267-24中文版（3nm及以下先进制程半导体超纯水系统设计标准）

前言

ASTMD8267-24是美国材料与试验协会（ASTM）2024年正式发布的针对3nm及以下先进制程半导体专用超纯水（UPW）系统设计的专项标准，是当前全球最前沿的半导体超纯水工程设计、建设、验收及运维核心规范。该标准针对性解决了5nm、3nm、2nm及以下先进制程芯片制造中，超纯水微量污染物引发的栅氧缺陷、光刻图形偏移、晶圆表面微污染、CMP抛光平整度偏差等高端工艺痛点，替代并升级了传统ASTMD5127、ASTMD7980等通用半导体纯水标准，填补了先进制程超纯水精细化、极限化设计的规范空白。

相较于成熟成熟制程（7nm以上）的纯水系统设计要求，3nm及以下先进制程对水中微量离子、超微颗粒、痕量有机物、溶解气体、微生物的管控精度提升1-2个数量级。ASTMD8267-24从系统架构、设备选型、管路设计、水质阈值、在线监测、运维管控、风险防控七大维度，制定了专属严苛规范，成为全球晶圆厂先进制程产线超纯水系统建设的核心依据，同时也是国内高端半导体新建、改扩建项目的主流对标国际标准。

1.标准总则

1.1适用范围

本标准适用于3nm、2nm、1nm及以下先进逻辑制程、先进存储制程半导体晶圆制造产线的超纯水制备、输送、循环回用全系统设计，涵盖原水预处理、深度纯化、终端抛光、管路输送