CN119753648A 低压化学气相沉积镀膜工艺的参数优化方法及其相关装置 （上海丹捷格智能科技有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119753648A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202411965474.XG06F111/04(2020.01)

(22)申请日2024.12.30

(71)申请人上海丹捷格智能科技有限公司

地址202150上海市崇明区横沙乡富民支

路58号（上海横泰经济开发区）

(72)发明人高源发王思聪任振勤

(74)专利代理机构广东捷成专利商标代理事务

所(普通合伙)44770

专利代理师阙文锋

(51)Int.Cl.

C23C16/52(2006.01)

C23C16/44(2006.01)

G06