CN119644485A 光学衰减膜及其制备方法 （宁波舜宇红外技术有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119644485A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202311197143.1

(22)申请日2023.09.15

(71)申请人宁波舜宇红外技术有限公司

地址315400浙江省宁波市余姚市阳明街

道丰悦路360、362号

(72)发明人白俊文金烨堂陈惠广

(74)专利代理机构北京英思普睿知识产权代理

有限公司16018

专利代理师刘莹聂国斌

(51)Int.Cl.

G02B1/14(2015.01)

G02B1/18(2015.01)

G02B5/20(2006.01)

权利要求书1页说明书6页附图2页

(54)发明名称

光学衰减膜及其制备方法

(57)摘要

CN119644485A本申请公开了一种光学衰减膜及其制备方法，光学衰减膜包括基底、衰减层和保护层，基底具有相对的第一表面和第二表面；衰减层设置于基底的第一表面或第二表面；保护层设置于衰减层的远离基底的一侧，保护层为聚硅氮烷涂层，在与第一表面垂直的预设投影方向上，保护层的投影面积大于等于衰减层的投影面积。通过在衰减层上增设保护层并且使保护层为疏水的聚硅氮烷涂层，能够避免酸碱性物质、水汽、灰尘等污染物吸附在光学衰减膜上，降低衰减层被外界物

CN119644485