CN119642725B 一种基于粒子群优化的epe胶膜p层厚度均匀性检测方法 （杭州新子光电科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN119642725B

(45)授权公告日2025.07.04

(21)申请号202510169980.6

(22)申请日2025.02.17

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN119642725A

(43)申请公布日2025.03.18

(73)专利权人杭州新子光电科技有限公司

地址310000浙江省杭州市临安区玲珑街

道庆仙路128号

(72)发明人徐俊毛征宇曲炯明赵鑫炎

(74)专利代理机构北京奥肯律师事务所11881专利代理师雷蕾

(51)Int.Cl.

G01B11/06(2006.01)

G06T7/00(2017.01)

G06T7/13(2017.01)

G06T5/70(2024.01)

G06N3/006(2023.01)

G01B9/02055(2022.01)

(56)对比文件

CN117128877A,2023.11.28

CN116644525A,2023.08.25审查员石隽菲

权利要求书3页说明书8页附图1页

(54)发明名称

一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均

匀性检测方法

(57)摘要

CN119642725B本发明公开了一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检