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MOSFET
金属-氧化物-半导体场效应晶体管
MetalOxideSemiconductor
FieldEffectTransistor
1
1.MOSFET的基本工作原理
纵向结构:
金属-氧化层-半导体
横向结构:
源区-沟道区-漏区
四端(4个电极):
漏极D(Drain)
栅极G(Gate)
源极S(Source)
衬底B(Bulk,
Substrate)
几何参数:W、L和tOX
区域划分:有源区,场区
2
载流子运动方向:S→D器件VV
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