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MOSFET

金属-氧化物-半导体场效应晶体管

MetalOxideSemiconductor

FieldEffectTransistor

1

1.MOSFET的基本工作原理

纵向结构:

金属-氧化层-半导体

横向结构:

源区-沟道区-漏区

四端(4个电极):

漏极D(Drain)

栅极G(Gate)

源极S(Source)

衬底B(Bulk,

Substrate)

几何参数:W、L和tOX

区域划分:有源区,场区

2

载流子运动方向:S→D器件VV

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