CN119654440A 包含金属化合物的薄膜沉积用组合物、利用该组合物的含金属薄膜的制造方法及利用该方法制造的含金属薄膜 （Dnf有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119654440A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202380057717.7

(22)申请日2023.08.29

(30)优先权数据

10-2022-01115822022.09.02KR

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.05

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/KR2023/0127512023.08.29

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/049150KO2024.03.07

(71)申请人DNF有限公司

地址韩国大田广域市

(72)发明人权容熙卞泰锡全相勇李相赞任永宰李相益

(74)专利代理机构成都超凡明远知识产权代理

有限公司51258

专利代理师宋东颖

(51)Int.Cl.

C23C16/40(2006.01)

C23C16/455(2006.01)

C23C16/18(2006.01)

权利要求书3页说明书13页附图4页

(54)发明名称

包含金属化合物的薄膜沉积用组合物、利用该组合物的含金属薄膜的制造方法及利用该方法制造的含金属薄膜

(57)摘要

CN119654440A本发明提供一种包含金属化合物的含金属薄膜沉积用组合物、采用该组合物的含金属薄膜