CN119654450A 用于处理腔室以促进沉积工艺可调整性的处理配件和相关方法 (应用材料公司).docxVIP

  • 2
  • 0
  • 约4.84万字
  • 约 113页
  • 2026-06-06 发布于山西
  • 举报

CN119654450A 用于处理腔室以促进沉积工艺可调整性的处理配件和相关方法 (应用材料公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119654450A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202380056796.X

(22)申请日2023.01.17

(30)优先权数据

(72)发明人丛者澎阿拉·莫拉迪亚盛涛尼姆罗德·史密斯

阿舒尔·J·阿塔诺斯

维恩·N·德兰

(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理

有限公司11006

专利代理师徐金国吴启超

(51)Int.Cl.

C30B25/16(2006.01)

C30B25/14(2006.01)

C30B25/08(2006.01)

权利要求书6页说明书20页附图45页

63/346,68117/871,455

17/871,505

17/871,607

2022.05.27

2022.07.22

2022.07.22

2022.07.22

USUSUSUS

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.24

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0108892023.01.17

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2023/229671EN2023.11.30

(71)申请人应用材料公司

地址美国加利福尼亚州

(54)发明名称

用于处理腔室以促进沉积工

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档