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石墨烯研发与生产手册（执行版）

第1章石墨烯材料制备工艺

1.1化学气相沉积法（CVD）技术流程

在洁净的低温反应炉（通常为400-600℃）中铺设多层石墨衬底（如金刚砂布或氮化硼片），并通入高纯度的氢气（H?）和甲烷（CH?）混合气体作为反应气源。将含有石墨烯前驱体（如石墨粉或含碳前驱体）的悬浮液滴加到衬底表面，形成初始的碳前驱层，随后进行高温退火处理以去除溶剂并激发碳原子活性。

此时，碳原子在氢气氛围下发生分解反应，含碳自由基，这些自由基在石墨衬底的催化作用下吸附并发生聚合反应，逐步构建石墨烯的二维晶格结构。随着反应进行，石墨烯层数逐渐增加，最终在衬底上形成连续的、具