CN119753554A 一种真空腔体yof涂层的制备方法 （安徽高芯众科半导体有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119753554A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202411920316.2

(22)申请日2024.12.24

(71)申请人安徽高芯众科半导体有限公司

地址240799安徽省池州市直属园区经济

技术开发区金安园区金同路69号

(72)发明人朱应高韦孟德金巨万

(74)专利代理机构上海德同律师事务所31429

专利代理师张国瑞

(51)Int.Cl.

C23C4/12(2016.01)

C23C4/02(2006.01)

C23C4/11(2016.01)

权利要求书1页说明书8页附图2页