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氮化硅研发与应用手册

第1章氮化硅材料基础与制备工艺

1.1氮化硅材料的晶体结构与性能特性

氮化硅(Si?N?)具有典型的四方晶系(P42/mnm)或单斜晶系(P3c1m),其中四方相是工业应用中最常见的形态。其晶胞参数$a\approx4.39\text{\AA},b\approx5.55\text{\AA},c\approx8.92\text{\AA}$,空间群$P42/mnm$。这种特定的晶体结构赋予了材料极高的硬度(莫氏硬度约9)和优异的弹性模量,使其成为机械结构件的首选材料。硅氮键(Si-N)键能高达3.3eV,远高于Si-O

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