2025年石墨烯材料制备与应用手册_1.docx

2025年石墨烯材料制备与应用手册

第1章石墨烯材料制备技术

1.1化学气相沉积法（CVD）

化学气相沉积法是目前制备高质量二维石墨烯薄膜的主流技术，其核心原理是在高温下利用含碳气体（如甲烷或乙炔）与载气混合，在衬底表面发生裂解反应，石墨烯晶格。该过程通过精确控制反应温度、气体流量和衬底温度，实现碳原子的有序排列。实验操作中，通常选用铜（Cu）或镍（Ni）等具有催化活性的金属作为衬底，将铜箔置于管式炉中，通入氢气作为还原性气氛保护。在加热至900℃至1000℃的高温区间，确保反应物完全分解并结晶。

为了获得大面积的高品质薄膜，需采用流化床炉或平板炉进行连续或间歇式反应。在流化