CN119732180A 等离子处理装置以及等离子处理方法 （株式会社日立高新技术）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119732180A

(43)申请公布日2025.03.28

(21)申请号202380012990.8

(22)申请日2023.07.27

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2024.01.23

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0275452023.07.27

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2025/022636JA2025.01.30

(71)申请人株式会社日立高新技术地址日本东京都

(72)发明人川那边哲雄佐竹真

(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责