CN119731367A 溅射靶材及溅射靶材的制造方法 （住友化学株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119731367A

(43)申请公布日2025.03.28

(21)申请号202380062783.3

(22)申请日2023.08.09

(30)优先权数据

2022-1392112022.09.01JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.27

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0290232023.08.09

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/048225JA2024.03.07

(71)申请人住友化学株式会社

地址日本

申请人株式会社丰岛制作所

(72)发明人黑田稔显柴田宪治渡边和俊岩谷幸作

(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任

公司11021

专利代理师朱丹

(51)Int.Cl.

C23C14/34(2006.01)

C04B35/495(2006.01)

H10N30/076(2006.01)

H10N30/097(2006.01)

H10N30/853(2006.01)

权利要求书2页说明书26页附图3页

(54)发明名称

溅射靶材及溅射靶材的制造方法

(57)摘要

CN119731367A本发明提供一种溅射靶材，其由包含钾、钠、铌以及氧的氧化物的烧结体构