CN119698111A 一种基于ALD叠层优化的TOPCon硅片镀膜方法 （和光同程光伏科技(宜宾)有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119698111A

(43)申请公布日2025.03.25

(21)申请号202411891496.6H10F77/30(2025.01)

(22)申请日2024.12.20

(71)申请人和光同程光伏科技（宜宾）有限公司

地址644600四川省宜宾市叙州区高场镇

高新社区金润产业园72栋

申请人四川和光同程光伏科技有限公司

(72)发明人田素霞谢泰宏袁正国谢耀辉

张书界何佳龙黄菊梅

(74)专利代理机构成都贞元会专知识产权代理

有限公司51390

专利代理师韦海英

(51)Int.Cl.

H10F7