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光刻法制备表面多级结构概述

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TOC\o1-3\h\u1336光刻法制备表面多级结构概述 1

13281.1.1两步光刻技术 1

43861.1.2纳米压印光刻技术 2

294821.1.3毛细管力光刻技术 3

当前，表面多级结构的制备通常是基于两种典型的“自下而上”和“自上而下”实验方法，所制备的表面多级结构可根据其结构特点、材料性质和应用进行分类，如图1-1所示[9]。利用“自下而上”的实验方法（如表面自组装[10]）制备的表面多级结构一般会自动随机聚集或分散，其主要特征是无需使用昂贵的样品、设备和繁琐的工艺即可能制备出具有特殊有序尺寸的表面多级结构。然而，自组装技术常局限于应用范围，无法使尺寸达到较高的精确度，往往会发生随机取向的表面多级结构（图1-1a-b）。对比之下，在光刻技术使用非传统的“自上而下”实验方法（共聚物光刻[11]、纳米转移印刷[12]等）可以获得边界明显的表面多级结构（图1-1c-e），但上述实验方法仍存在许多不足，使产品不能得到广泛应用。因此，后来大量的研究都是基于各种不同的光刻技术，而其他方法都是辅助条件来实现复杂化的表面多级结构的制备。

图1-1不同种类的表面多级结构示意图

两步光刻技术

常规的光刻技术作为一种表面有序多级阵列结构的微纳米加工技术，其原理是通过复