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显示面板制造超纯水系统污染控制技术规范（2025版）

前言

当前显示面板行业已全面进入高世代LCD、柔性OLED、MiniLED、MicroLED规模化量产阶段，面板制程包含阵列、彩膜、成盒、模组四大核心工段，涉及光刻、刻蚀、薄膜沉积、剥离、清洗、显影等百余道湿法工艺，超纯水作为湿法制程用量最大、覆盖面最广的基础工艺介质，其洁净度直接决定面板良率、亮点暗点缺陷、像素漏电、膜层附着力及产品使用寿命。

相较于半导体晶圆制程，显示面板超纯水具备大流量连续供水、多点位分支供水、常温+中温双工况用水、管路分支多盲端风险高、药液交叉返渗污染突出五大独有特征；同时面板玻璃基板无晶格修复能力，水中微量颗粒物、金属离子、有机物、微生物、硅析出污染物，会直接造成基板针孔、像素黑点、ITO电极腐蚀、膜层脱落、光刻胶残留等不可逆缺陷，据2025年国内头部面板厂制程不良复盘数据，超纯水水质污染引发的面板不良占整体湿法工艺不良的21.7%，是制约高世代面板良率提升的关键隐性因素。

本规范依据SEMIF75-0617超纯水监测标准、SEMIF63-2021有机物管控规范、GB/T11446-2013电子级纯水标准、T/CESA1086-2020液晶面板制造业绿色工厂评价要求、电子信息制造业超纯水系统设计及运维通用规范编制，结合2025年国内8.6代、10.5代LCD产线，6代柔性OLED产线及Mi