CN119744054A 保护膜形成膜及基板装置的制造方法 （琳得科株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119744054A

(43)申请公布日2025.04.01

(21)申请号202411326029.9

(22)申请日2024.09.23

(30)优先权数据

2023-1652092023.09.27JP

2024-1139302024.07.17JP

(71)申请人琳得科株式会社地址日本东京都

(72)发明人堂下美纱季

(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限

公司11002

专利代理师陈玉净田凌宇

(51)Int.Cl.

H10H20/841(2025.01)

权利要求书2页说明书46页附图4页

(54)发明名称

保护膜形成膜及基板装置的制造方法

(57)摘要

CN119744054A本发明提供一种保护膜形成膜，其为热固性的保护膜形成膜，其中，将作为保护膜形成膜的热固化物的保护膜以260℃加热5分钟，并测定加热后的所述保护膜的光反射率时，在400~700nm的全波长区域内，所述光反射率为26%

CN119744054A

CN119744054A权利要求书1/2页

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1.一种保护膜形成膜，其为热固性的保护膜形成膜，

将作为所述保护膜形成膜的热