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MgxZn1-xO光学薄膜：制备工艺、光学特性与应用前景

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，光学材料在众多领域中扮演着至关重要的角色，成为推动现代技术进步的关键要素。其中，MgxZn1-xO光学薄膜作为一种极具潜力的新型材料，凭借其独特的性质，在光学领域中占据着日益重要的地位。

ZnO是一种直接带隙宽禁带Ⅱ-Ⅵ族半导体材料，室温下禁带宽度约为3.37eV，激子束缚能高达60meV，比同是宽禁带材料的ZnSe和GaN具有更短波长的紫光发射，在太阳能电池、紫外光探测器件、场发射等领域有广泛的应用前景。然而，随着科技的不断进步，对材料性能的要求也日