SEMI F63-24 中文版 半导体工艺用超纯水标准指南（2024最新版）.docxVIP

SEMIF63-24中文版半导体工艺用超纯水标准指南（2024最新版）

标准基础信息

标准编号：SEMIF63-2024（简称SEMIF63-24）

标准英文原名：SpecificationforUltrapureWaterUsedinSemiconductorProcessing

发布机构：国际半导体产业协会（SEMI）

发布日期：2024年03月

替代版本：SEMIF63-0701、SEMIF63-2022

联动配套SEMI标准：SEMIF61-0521（UPW系统设计与运维）、SEMIF75-0521（在线监测与取样规范）、SEMIE49（高纯流体管路规范）

适用制程：覆盖3nm/2nm/1nm先进逻辑制程、12英寸晶圆量产、第三代半导体（碳化硅/氮化镓）、先进封装CoWoS/HBM、面板显示高端阵列制程

编制说明：本文为SEMIF63-24官方完整直译中文版，无语义删减；同步增补新旧版本差异对比、检测工况约束、国内国标GB/T11446.1对标、现场取样合规细则、水质异常工艺失效对应关系，可直接作为晶圆厂UPW水质验收文件、第三方审厂依据、纯水系统工艺设计硬性指标，与前文SEMIF61-0521运维手册完全配套。

第1章总则与适用范围

1.1适用范围

本文件规定半导体全制程工艺使用超纯水（UPW）的全域水质极限指标、检测环境基准