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- 2026-06-23 发布于北京
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1996年12月
N
NDH8320C
双N沟道和P沟道增强型场效应晶体管
概述特性
这些双N沟道和P沟道增强型功率场效应晶体管采用N通道3A,20V,R=0.06@V=4.5VR
DS(ON)GS
National专有的高单元密度DMOS技术制造。这种非常=0.075@V=2.7VP通道‑2A,‑20V,R
DS(ON)GS
高的密度工艺特别设计用于最小化导通电阻并卓=0.13@V=‑4.
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