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曝光机试题及详细答案

一、填空题（每空2分，共20分）

曝光机的核心部件是__________，其作用是产生满足曝光需求的光线（答案：曝光灯）

曝光过程中，__________是控制曝光量的关键参数，单位通常为mJ/cm2（答案：曝光能量）

曝光机按光源类型可分为__________和UV曝光机，其中UV曝光机广泛应用于PCB、FPC行业（答案：汞灯曝光机）

曝光前需对基板进行__________处理，目的是去除表面油污、灰尘，保证曝光效果（答案：清洁）

曝光机的对位方式主要有__________、CCD自动对位和手动对位三种（答案：光学对位）

曝光后基板需进入__________进行显影处理，将未曝光的光刻胶去除（答案：显影机）

当曝光能量过高时，会导致光刻胶__________，出现线条变粗、边缘模糊等问题（答案：过度曝光）

曝光机的真空系统作用是__________，确保基板与掩膜版紧密贴合，避免光散射（答案：抽取腔体内空气）

日常维护中，需定期清洁曝光灯的__________，防止灰尘影响光线透过率（答案：灯罩/透光片）

曝光机的报警代码“E01”通常表示__________故障，需检查电源或灯座连接（答案：曝光灯启动）

二、选择题（每题3分，共30分，单选）

下列哪种情况会导致曝光后基板出现“曝光不足”现象（）

A.曝光能量设置过高B.曝光时