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扩展X射线吸收精细结构基本原理及特点

一、X射线吸收的基本过程

当X射线照射到物质上时，会与物质中的原子发生相互作用，其中一种重要的作用方式是光电效应。当X射线光子的能量等于或大于原子内层电子的结合能时，光子会被吸收，内层电子被激发成为光电子，同时在原子的内层轨道上留下一个空穴。这个过程可以用以下公式表示：

[E_{photon}=E_{binding}+E_{kinetic}]

其中，(E_{photon})是X射线光子的能量，(E_{binding})是内层电子的结合能，(E_{kinetic})是光电子的动能。

当X射线光子的能量刚好等于内层电子的结合能时，吸收系数会突然增大，形成吸收边。不同元素的内层电子结合能不同，因此吸收边的位置也不同，这使得X射线吸收光谱可以用于元素的定性分析。例如，铁的K吸收边位于约7112eV，而铜的K吸收边位于约8979eV。

在吸收边以上，随着X射线光子能量的增加，吸收系数总体上呈现出单调下降的趋势。这是因为随着光子能量的增加，光子与电子发生相互作用的概率逐渐减小。然而，在吸收边以上的一定能量范围内，吸收系数并不是平滑下降的，而是呈现出一系列的振荡结构，这就是扩展X射线吸收精细结构（ExtendedX-rayAbsorptionFineStructure，EXAFS）。

二、EXAFS的基本原理

（一）散射与干涉

EXA