CN119758672A 干涉曝光系统、方法及光栅曝光系统 （深圳光峰科技股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119758672A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202311279704.2

(22)申请日2023.09.27

(71)申请人深圳光峰科技股份有限公司

地址518000广东省深圳市南山区粤海街

道学府路63号高新区联合总部大厦

20-22楼

(72)发明人赵家琦刘志浩李屹

(74)专利代理机构深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙)44351

专利代理师吕静

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书9页附图4页

(54)发明名称

干涉曝光系统、方法及光栅曝光系统

(57)摘要

CN119758672A本申请公开了一种干涉曝光系统、方法及光栅曝光系统，涉及光学领域，干涉曝光系统包括：相干光光源模块，用于输出第一相干光束以及第二相干光束，第一相干光束与第二相干光束的光束夹角为第一角度；光束调整模块，调整第一相干光束的光路，得到第三相干光束，以及调整第二相干光束的光路，得到第四相干光束，第三相干光束与第四相干光束的光束夹角为第二角度，所述第二角度小于所述第一角度；周期测量模块，用于检测第三相干光束以及第四相干光束所形成的干涉条纹的条纹周期；控制模块，用于根据条纹周期，确定对应的调节参数，并根据调