CN119768908A 用于形成低电阻率接触的方法 （应用材料公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119768908A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202380064123.9

(22)申请日2023.09.20

(30)优先权数据

63/410,4222022.09.27US

18/139,5902023.04.26US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.06

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0332732023.09.20

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/072680EN2024.04.04

(71)申请人应