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- 2026-06-24 发布于河南
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T/XXXXXXX—XXXX
A
A
附录A
(资料性)
超精密平面磨床典型应用案例
A.1硅片减薄与背面研磨应用案例
A.1.1应用场景与设备要求
本案例展示超精密平面磨床在300 mm硅片减薄与背面研磨中的应用。按4.1规定的硅片加工质量目
标,选用B级超精密平面磨床,性能满足表2中B级指标要求。
A.1.2磨床配置与工艺策略
磨床关键配置如下:
a)主轴系统:空气静压主轴,径向回转误差≤0.1 μm;
b
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