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CN119694942A 一种工艺腔室及半导体工艺设备 （盛吉盛半导体科技(北京)有限公司）.pdfVIP

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  • 2026-06-24 发布于重庆
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CN119694942A 一种工艺腔室及半导体工艺设备 （盛吉盛半导体科技(北京)有限公司）.pdf

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119694942A

    (43)申请公布日2025.03.25

    (21)申请号202411873080.1

    (22)申请日2024.12.18

    (71)申请人盛吉盛半导体科技（北京）有限公司

    地址100176北京市大兴区北京经济技术

    开发区荣华南路15号院2号楼7层703

    室

    (72)发明人周令义王美玲崔小康郭鑫

    (74)专利代理机构北京申翔知识产权代理有限

    公司11214

    专利代理师杨博

    (51)Int.Cl.

    H01L21/67(2006.01)

    权利要求书1页说明书6页附图5页

    (54)发

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