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CN119790483A 半导体制造装置的保养作业分析系统以及保养作业分析方法 （株式会社日立高新技术）.docxVIP

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  • 2026-06-26 发布于山西
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CN119790483A 半导体制造装置的保养作业分析系统以及保养作业分析方法 （株式会社日立高新技术）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119790483A

    (43)申请公布日2025.04.08

    (21)申请号202380018813.0

    (22)申请日2023.08.08

    (85)PCT国际申请进入国家阶段日2024.07.25

    (86)PCT国际申请的申请数据

    PCT/JP2023/0289142023.08.08

    (87)PCT国际申请的公布数据

    WO2025/032718JA2025.02.13

    (71)申请人株式会社日立高新技术地址日本

    (72)发明人沼田崇志池田直仁大木佑哉三谷佳一川俣良太佐藤浩平

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