CN119790488A Cmp用研磨液、cmp用研磨液套组及研磨方法 （株式会社力森诺科）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119790488A

(43)申请公布日2025.04.08

(21)申请号202380037557.X

(22)申请日2023.08.07

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2024.10.30

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0288052023.08.07

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2025/032702JA2025.02.13

(71)申请人株式会社力森诺科

地址日本国东京都港区东新桥一丁目9番1号

(72)发明人仓田靖岩野友洋

(74)专利代理机构