CN119937259A 保持基板图形高精度对齐的二次双面曝光方法 （安徽国芯光刻技术有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119937259A

(43)申请公布日2025.05.06

(21)申请号202510375870.5

(22)申请日2025.03.27

(71)申请人安徽国芯光刻技术有限公司

地址230000安徽省合肥市包河经济开发

区中关村协同智汇园B4栋5层

(72)发明人王运钢章广飞薛业保李文静

(74)专利代理机构合肥律众知识产权代理有限

公司34147

专利代理师刘吉意

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

G03F9/00(2006.01)

H05K3/00(2006.01)