CN119816782A 异物去除装置、防护膜组件的制造装置、防护膜组件的制造方法以及防护膜组件 （三井化学株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119816782A

(43)申请公布日2025.04.11

(21)申请号202380061968.2

(22)申请日2023.08.22

(30)优先权数据

2022-1402792022.09.02JP2023-0471542023.03.23JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.25

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0301372023.08.22

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/048365JA2024.03.07

(71)申请人三井化学株式会社地址日本

(72)发明人伊藤健种市大树高村一夫大久保敦

(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限

公司11243

专利代理师钟海胜郭玫

(51)Int.Cl.

G03F1/62(2006.01)

G03F1/82(2006.01)

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书18页附图2页

(54)发明名称

异物去除装置、防护膜组件的制造装置、防

护膜组件的制造方法以及防护膜组件

(57)摘要

CN119816782A本公开中，异物去除装置具备：产生真空紫外光的真空紫外光产生部；用于对防护膜照射所述真空紫