溅射镀膜操作流程详解与实战指南.pdfVIP

溅射镀膜操作流程

JGP-560C双室磁控溅射沉积系统操作规范

系统的气路图如图:

注真空区域可划分为五类粗真空区域低真空区域高真空区域超真空区域极高真空区域这种气体的量的变化也会对各类生产过程产生很大影响对镀膜过程也不例外例如物质在真空中的沸点比在大气中的低在真空条溅射镀膜操作流程件下可以降低物质大量蒸发所需的温度因而在

一、前期准备：

打开循环水（循环水能及时降温，主要是抽水泵能正常工作），

膜所受的应力不一致有可能导致开裂翘曲或脱落等附着强度问题基片表面应洁净基片表面的洁净与否会直接影响镀膜的均匀性附着强度严重时还会使镀膜开裂翘曲或脱落以玻璃基片为例如果基片清洗效果不达标表面存有灰尘油脂或油的薄层那么就会严重影响镀层的光学透射

打开墙上电源，打开总电源，打开控制电源

样当进样室真空度低于时关闭打开取下样品托并旋转度送入溅射室并交接到转盘上可通过侧壁上的样品叉辅助交接抽出传递杆关闭对溅射室抽真空注采用传递杆传送样