基于PID神经网络的非平衡反应磁控溅射迟滞效应控制优化与仿真分析.docxVIP

基于PID神经网络的非平衡反应磁控溅射迟滞效应控制优化与仿真分析

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料制备领域，非平衡反应磁控溅射技术凭借其独特优势占据着至关重要的地位。自1985年Window和Savvides引入该概念后，非平衡磁控溅射技术迅速发展，多种非平衡磁场设计相继涌现。通过调整磁场分布，使得等离子体能够扩散到基底表面，增强了基底表面的离子轰击效应，有利于制备出附着力强、致密性高且成分与结构可控的薄膜，在光学薄膜、硬质涂层、电子器件等众多领域得到广泛应用。例如在制备光学薄膜时，可通过精确控制等离子体中的离子浓度和能量，有效调控薄膜的光学性能，满足不同光学器件的需求；