磁控溅射超薄金属膜在太赫兹波段的光学特性:原理、影响因素与应用前景.docx

磁控溅射超薄金属膜在太赫兹波段的光学特性:原理、影响因素与应用前景.docx

磁控溅射超薄金属膜在太赫兹波段的光学特性:原理、影响因素与应用前景

一、引言

1.1研究背景与意义

太赫兹(THz)波,作为频率介于0.1-10THz(波长30μm-3mm)的电磁辐射,在电磁波谱中占据着微波与红外波段之间的特殊位置,这赋予了太赫兹系统兼顾电子学和光学系统的优势。太赫兹技术自正式命名以来,受到了全球范围内的高度关注,被美国评为“改变未来世界的十大技术”之一,日本更是将其列为“国家支柱十大重点战略目标”之首。在过去的几十年间,太赫兹技术在多个关键领域取得了显著的研究进展。

在太赫兹辐射技术方面,其产生途径主要分为基于电子学技术、光子学技术以及超快激光技

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