集成电路工厂超纯水系统运行维护技术规程 行业通用版.docxVIP

集成电路工厂超纯水系统运行维护技术规程行业通用版

封面

规程名称：集成电路工厂超纯水系统运行维护技术规程（行业通用版）

适用领域：8/12英寸晶圆制造、IC封装测试、微电子芯片制程超纯水（UPW）系统运维

执行标准：SEMIF63、SEMIF64、GB/T19249、GB5749、工业纯水系统运维通用规范

文档用途：行业通用运维标准、工厂SOP编制依据、日常运维指导、审厂合规归档、人员培训教材

版本：V1.0（行业通用版）

编制部门：设备运维部、公用工程事业部、EHS管理部

编制/审核/批准：__________/__________/__________

生效日期：_______年____月____日

版本履历表

版本

修订日期

修订内容说明

编制人

审核人

V1.0

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首次编制，形成集成电路工厂超纯水系统全流程通用运维规程，覆盖启停、巡检、保养、清洗、故障、停机、水质管控全体系

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前言

超纯水（UPW）是集成电路芯片制造的核心工艺介质，广泛应用于晶圆清洗、刻蚀、薄膜沉积、CMP抛光、封装清洗等关键工序，其水质洁净度、稳定性、低杂质特性直接决定芯片良率与器件电学性能。集成电路工厂超纯水系统具备24h连续运行、水质指标严苛、设备链路复杂、无菌无杂质要求高、工况稳定性敏感的行业特点，区别于普通工业纯水系统，对运行操作、日常巡检、定期保养、污染治理、故