半导体超纯水系统 IQ_OQ_PQ 验证方案与报告模板 中文版.docxVIP

半导体超纯水系统IQ/OQ/PQ验证方案与报告模板中文版

封面

文档名称：半导体超纯水（UPW）系统IQ/OQ/PQ验证方案与正式报告

适用场景：半导体晶圆厂新建/改造/移机/大修后超纯水制备及输送系统验证

执行标准：SEMIF63-24、SEMIF64-2024、SEMIF57-2023、ISO14644、GMP质量体系、半导体量产良率管控规范

文档版本：V1.0

编制部门：设备部/水务运维部/品质部

编制日期：_______年____月____日

生效日期：_______年____月____日

审批签字：

编制：__________审核：__________批准：__________

版本履历表

版本

修订日期

修订内容

修订人

审核人

V1.0

_______

首次编制，完整覆盖IQ/OQ/PQ验证方案、测试记录、判定标准、正式报告

_______

_______

前言

半导体超纯水（UPW）是晶圆CMP抛光、薄膜沉积、刻蚀清洗、扩散工艺的核心工艺介质，水质稳定性、洁净度、杂质控制水平直接决定先进制程（28nm～1nmFinFET/GAA）晶圆良率与器件电学性能。超纯水系统包含原水预处理、RO反渗透、EDI脱盐、TOC紫外降解、抛光混床、密闭储水、全厂循环管网、POU终端取水全链路，属于半导体产线关键公用工程系统。

为确保系统安装合规、运行可控、