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阴离子对铜在多晶铂上沉积行为的影响：欠电位与过电位的视角

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代电化学领域，金属在异质基体上的沉积行为一直是研究的重点，其中铜在多晶铂上的沉积研究尤为引人注目。铜具有良好的导电性、导热性以及相对较低的成本，在电子器件、催化、能源存储与转换等众多领域有着广泛应用。例如，在电子器件制造中，铜常被用于制作金属互连线，其沉积质量直接影响着电子器件的性能与稳定性；在催化领域，铜-铂复合催化剂展现出独特的催化活性，而铜在铂表面的沉积方式和结构对催化剂的性能起着关键作用。多晶铂由于其独特的晶体结构和良好的电化学稳定性，常被用作电极材料和沉积基体，研究铜在多晶铂上的