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磁控溅射操作日志填写

磁控溅射操作日志填写

一、（1）磁控溅射操作日志作为实验记录的核心文件，其重要性体现在对工艺参数的可追溯性和设备运行状态的长期监测上。每次溅射前需确认真空室是否达到预设本底真空度，通常要求低于5×10??Pa，这一数值直接影响薄膜的纯度和附着力。操作人员应记录抽真空开始时间和结束时间，并标注所用机械泵与分子泵的启动顺序。若使用干泵或低温泵，也需注明型号与冷却条件。基片装载步骤中，需详细记载基片材质、尺寸、清洗方式以及固定夹具的类型，因为不同材料的热膨胀系数差异可能导致膜层开裂。靶材的选择同样关键，需标明靶材纯度、直径、厚度以及是否为合金靶或多元素复合靶，若为新靶还需记