CN119836685A 基板处理装置及基板处理方法 （株式会社Eugene科技）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119836685A

(43)申请公布日2025.04.15

(21)申请号202380064045.2

(22)申请日2023.06.30

(30)优先权数据

10-2022-01122322022.09.05KR

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.05

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/KR2023/0092292023.06.30

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/053832KO2024.03.14

(71)申请人株式会社EUGENE科技

地址韩国京畿道龙仁市处仁区阳智面秋溪路42

(72)发明人玄俊镇赵柱铉徐教诚陈容擢

(74)专利代理机构北京纽盟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11456

专利代理师许玉顺

(51)Int.Cl.

H01L21/67(2006.01)

G06N20/00(2006.01)

权利要求书2页说明书6页附图7页

(54)发明名称

基板处理装置及基板处理方法

(57)摘要

CN119836685A根据本发明的一实施例，通过加热器处理基板的基板处理方法中，所述加热器加热基板来实施半导体工艺，所述基板处理方法包括：对一个以上的独立变量和从属变量中上述加热器测定温度的相