CN119836487A 掩模、成膜方法及成膜装置 （佳能特机株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119836487A

(43)申请公布日2025.04.15

(21)申请号202380064052.2

(22)申请日2023.08.14

(30)优先权数据

2022-1495112022.09.20JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.06

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0294212023.08.14

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/062802JA2024.03.28

(71)申请人佳能特机株式会社地址日本

(72)发明人长冈健市原正浩

(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所

有限公司11038

专利代理师韩卉

(51)Int.Cl.

C23C14/04(2006.01)

H01L21/68(2006.01)

H01L21/683(2006.01)

H05B33/10(2006.01)

H10K50/10(2006.01)

权利要求书2页说明书7页附图12页

(54)发明名称

掩模、成膜方法及成膜装置

(57)摘要

CN119836487A一种掩模，所述掩模具有用于在基板上对蒸镀物质的图案进行成膜的开口部，其中，所述掩模具备：掩模主体，所述掩模主体为非磁性体，具有