CN119836344A 用于图案化掩模的方法、用于生产嵌件或模具的方法、以及具有表面微结构的光学制品 （依视路国际公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119836344A

(43)申请公布日2025.04.15

(21)申请号202380064226.5

(22)申请日2023.08.08

(30)优先权数据82022.09.07EP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.06

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/EP2023/0719842023.08.08

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/052033EN2024.03.14

(71)申请人依视路国际公司地址法国

(72)发明人H-W·邱

(74)专利代理机构北京市中咨律师事务所

11247

专利代理师牛南辉姜利芳

(51)Int.Cl.

B29D11/00(2006.01)

G03F7/18(2006.01)

G03F7/24(2006.01)

G03F7/20(2006.01)

G03F7/00(2006.01)

权利要求书2页说明书11页附图10页

(54)发明名称

用于图案化掩模的方法、用于生产嵌件或模

具的方法、以及具有表面微结构的光学制品

(57)摘要

CN119836344A本披露内容涉及一种用于制备具有要蚀刻的弯曲表面的物体的方法，所得的蚀刻表面可用作用于制造光学制