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0.18umCMOS工艺入门学习笔记|原创整理版

半导体制造流程·器件结构·光刻刻蚀·版图规则·复习题

0.18umCMOS工艺入门学习笔记（半导体制造流程、器件结构、光刻刻蚀、版图规则与复习题）

适用对象

电子信息、微电子、集成电路、材料、自动化等专业的入门学习者；

正在学习MOS器件、CMOS制造流程、版图基础与工艺模块的学生；

需要快速建立半导体工艺全景认知的工程助理、工艺助理、版图初学者与行业转岗人员。

使用场景

课程预习与复习：先用流程图式笔记建立框架，再用80题完成自测；

面试准备：围绕制造流程、器件结构、光刻刻蚀、版图规则等高频概念进行复盘；

工程沟通：帮