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2026年电子真空镀膜工专项题库(附答案与解释).pdf

2026年电子真空镀膜工专项题库(附答案与解释).pdf

    电子真空镀膜工专项题库（附答案与解释）

    一、单选题（只有一个正确答案）

    1.电子真空镀膜过程中，如果真空室内的压强过高，最可能导致膜层出现什么缺

    陷？

    A.附着力强

    B.颗粒大

    C.致密性好

    D.厚度均匀

    答案:B

    解析：真空度不足会导致气体分子密度大，撞击发的原子/分子，使其发生散射

    或非弹性碰撞，从而形成粗糙的颗粒状膜层。

    2.在多弧离子镀膜中，磁控溅射和弧光放电的主要区别是什么？

    A.溅射源不同

    B.能量密度不同

    C.镀膜材料不同

    D.基底温度不同

    答案=B

    解析：磁控溅射是气体放电产生的离子动能较

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