PVD 真空镀膜工艺技师考试试卷及答案.docVIP

PVD真空镀膜工艺技师考试试卷及答案

PVD真空镀膜工艺技师考试试卷及答案

一、填空题（共10题，每题1分）

1.PVD的全称是__________。

2.常见的PVD技术包括磁控溅射、真空蒸发和__________。

3.真空度的国际单位是__________。

4.磁控溅射常用的靶材材质有钛、铝和__________。

5.镀膜前工件清洗的常用方法是__________。

6.膜层附着力测试的常用方法是__________。

7.影响磁控溅射沉积速率的关键因素是__________。

8.真空系统中初级真空泵的类型是__________。

9.反应磁控溅射中常用的反应气体有氧气和__________。

10.膜层的核心性能指标之一是__________。

二、单项选择题（共10题，每题2分）

1.下列哪种工艺不属于PVD范畴？（）

A.磁控溅射B.化学镀C.真空蒸发D.离子镀

2.以下哪个不是真空度的表示单位？（）

A.PaB.TorrC.barD.kg

3.磁控溅射靶材的主要冷却方式是？（）

A.空气冷却B.水冷却C.油冷却D.自然冷却

4.离子镀中离子的主要来源是？（）

A.靶材蒸发粒子B.反应气体C.两者都是D.都不是

5.工件除油常用的碱性试剂是？（）

A.酒精B.盐酸C.氢氧化钠溶液D.蒸馏水

6.膜层厚度测量的常用仪器是？（）

A.千分尺B.分光光度计C.显微镜D