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2026年专利代理师专利审查案例分析真题含解析

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一、某发明创造涉及一种用于半导体制造的超纯水处理方法，其技术方案包括以下步骤：a)将去离子水通过多孔陶瓷膜过滤；b)将过滤后的水通过电去离子装置脱除离子；c)将脱离子后的水与特定离子进行交换，得到超纯水。现有技术中，已知有采用反渗透和离子交换相结合的方法处理水，但反渗透膜容易堵塞，且离子交换树脂再生效果不佳。申请人主张其方法通过特定多孔陶瓷膜的选择性过滤和优化的离子交换步骤，能够有效避免现有技术的不足，提高超纯水的纯度。要求对权利要求1-4进行评价，并撰写一封审查意见通知书，指出权利要求1-4不符合专利法第二十二条第二款（创造性）的规定，并说明理由。权利要求书如下：

1.一种用于半导体制造的超纯水处理方法，其特征在于，包括以下步骤：a)将待处理水通过多孔陶瓷膜过滤；b)将过滤后的水通过电去离子装置脱除离子；c)将脱离子后的水与特定离子进行交换，得到超纯水。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多孔陶瓷膜的平均孔径为0.1-0.5纳米。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述电去离子装置包括至少两个离子交换膜堆叠而成。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，所述特定离子为氢离子或氢氧根离子