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面向半导体晶圆的多尺度纳米级缺陷光刻图样在线视觉检测算法与系统设计

摘要

随着半导体制造工艺节点迈向3纳米及以下，晶圆光刻图样的纳米级微畸变与颗粒缺陷成为制约芯片良率的核心瓶颈。传统视觉检测方法难以兼顾在线检测的高效性与纳米级缺陷的识别精度。本课题旨在设计一套面向半导体晶圆的在线视觉检测算法与系统，以解决复杂光刻背景下的微小缺陷精准识别问题。

本课题的核心方案是设计频域滤波与多尺度深度融合网络。通过频域滤波分离光刻图样的周期性背景与缺陷特征，结合多尺度深度网络提取并融合不同感受野的缺陷信息，实现纳米级微畸变与颗粒缺陷的高精度在线检测。全文遵循“需求分析→总体设计→详细设计→实现→测试”的工程递进思路展开。

第一章至第三章分析了课题背景、技术选型与系统需求，明确了检测精度与在线响应时间等核心指标。第四章与第五章阐述了系统总体架构与核心算法的详细设计，包括频域滤波模块与多尺度网络模块的处理流程。第六章展示了系统的核心功能实现过程及关键技术难点解决思路。第七章对系统进行了功能与性能测试，验证了各项设计指标的达成情况。

本设计的核心创新点在于提出了一种频域空域特征协同增强机制，通过频域预处理抑制周期性纹理干扰，并利用多尺度网络自适应融合缺陷特征，有效提升了纳米级缺陷的检出率与系统的在线检测吞吐量，为半导体晶圆的高效视觉检测提供了可行的工程方案。

第一章绪论

1.1研究