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《半导体光刻胶用高纯溶剂丙二醇甲醚醋酸酯技术规范》.pdfVIP

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  • 2026-07-24 发布于河南
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《半导体光刻胶用高纯溶剂丙二醇甲醚醋酸酯技术规范》.pdf

    ICS71.080.60

    CCSG17

    CAQI

    中国质量检验协会团体标准

    T/CAQIXXXX—XXXX

    半导体光刻胶用高纯溶剂丙二醇甲醚醋酸

    酯技术规范

    Technicalspecificationforhigh-puritysolventPGMEAforsemiconductor

    photoresist

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    XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施

    中国质量检验协会  发布

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